高能微束裝置(TR0)可將HIRFL加速器提供的幾MeV/u至80 MeV/u的束流聚焦到微米量級(jí)和單離子精度,用于對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確定位和精確劑量(精確至單個(gè)離子或給定離子個(gè)數(shù))的輻照和分析。該裝置采用兩臺(tái)45度的垂直偏轉(zhuǎn)磁鐵輔以四極透鏡,將重離子束流導(dǎo)向地下室,再用高梯度三組合四極透鏡強(qiáng)聚焦在空氣中形成微米尺寸束斑,束流沿垂直方向從上向下輻照樣品。它目前是世界上能量最高的離子微束裝置,可提供的離子束在生物組織中離子LET值范圍為30-5000keV/μm,硅器件中的LET值范圍為0.2-85 MeV/(mg/cm2),在各種材料中的射程從幾十微米至18.5毫米。
蘭州高能微束裝置可以開(kāi)展單離子輻照、單粒子效應(yīng)定位分析和微區(qū)成像(微米至厘米)、單粒子效應(yīng)百納米成像、輻照效應(yīng)材料分析、活細(xì)胞在線成像、各種固體和生物樣品的微區(qū)輻照、離子注入攻擊等多學(xué)科交叉實(shí)驗(yàn)研究,已經(jīng)廣泛和國(guó)內(nèi)外用戶合作開(kāi)展了抗輻射加固、空間輻射生物學(xué)、微納加工和微納流控、離子束材料改性和離子束分析等研究。