本設(shè)備由超導磁體、磁控合成裝備、超快飛秒激光器、多功能樣品臺、多功能光路、光譜探測系統(tǒng)等組合而成。
基本參數(shù):磁場強度0~8?T(100?mm室溫孔徑);磁場強度0~7?T(2.54 mm低溫口徑);磁控水熱合成溫度~200oC;光譜測量溫度范圍4.2~300?K;光源脈寬100?fs;波長300~1600 nm;
基本功能:磁場下的材料制備(水熱反應、室溫溶液反應等);磁光Kerr譜(MOKE);磁二次諧波譜(MSHG);磁場下光致發(fā)光譜(MPL)。[注:以上四個功能所適用的碰場、溫度、光譜范圍有所不同]。
適用樣品:微納功能材料(磁控合成);單晶、薄膜(磁光譜)