上海光源軟X射線干涉光刻(XIL)分支線站是上海光源現(xiàn)階段唯一致力于微納加工技術(shù)研發(fā)及應(yīng)用的線站。X射線干涉光刻是利用兩束或多束相干X光束的干涉條紋對光刻膠進(jìn)行曝光的新型先進(jìn)微、納加工技術(shù),可以開展幾十甚至十幾個(gè)納米周期的納米結(jié)構(gòu)加工。與其他光刻等方法相比,XIL技術(shù)具有高密度、大的曝光面積、曝光時(shí)間短等優(yōu)點(diǎn),可以更可靠地獲得大面積、高質(zhì)量的亞50nm的高密度周期性納米結(jié)構(gòu)。其用戶群體集中在 EUV光刻技術(shù)研發(fā),納米光學(xué),納光電子器件,X射線探測器,納米磁學(xué)及生物自組裝等相關(guān)領(lǐng)域。